Выращивание и очистка кристаллов теллура 7N

Новости

Выращивание и очистка кристаллов теллура 7N

Выращивание и очистка кристаллов теллура 7N


I. Предварительная обработка и предварительная очистка сырья.

  1. Выбор и измельчение сырья
  • Требования к материалам‌: В качестве сырья использовать теллуровую руду или анодный шлам (содержание Te ≥5%), предпочтительно медеплавильный анодный шлам (содержащий Cu₂Te, Cu₂Se).
  • Процесс предварительной обработки‌:
  • Крупное измельчение до размера частиц ≤5 мм, затем шаровое измельчение до размера частиц ≤200 меш;
  • Магнитная сепарация (интенсивность магнитного поля ≥0,8 Тл) для удаления Fe, Ni и других магнитных примесей;
  • Пенная флотация (pH=8-9, ксантогенатные коллекторы) для отделения SiO₂, CuO и других немагнитных примесей.
  • Меры предосторожностиИзбегайте попадания влаги во время влажной предварительной обработки (требуется сушка перед обжигом); поддерживайте влажность окружающей среды на уровне ≤30%.
  1. Пирометаллургический обжиг и окисление
  • Параметры процесса‌:
  • Температура окислительного обжига: 350–600 °C (поэтапный контроль: низкая температура для десульфуризации, высокая температура для окисления);
  • Время обжарки: 6–8 часов, при скорости потока O₂ 5–10 л/мин;
  • Реагент: концентрированная серная кислота (98% H₂SO₄), массовое соотношение Te₂SO₄ = 1:1,5.
  • Химическая реакция‌:
    Cu2Te+2O2+2H2SO4→2CuSO4+TeO2+2H2OCu2​Te+2O2​+2H2​SO4​→2CuSO4​+TeO2​+2H2​O
  • Меры предосторожности‌: Поддерживать температуру ≤600°C для предотвращения испарения TeO₂ (температура кипения 387°C); обрабатывать отработанные газы с помощью скрубберов NaOH.

II. Электрорафинирование и вакуумная дистилляция

  1. Электрорафинирование
  • Электролитная система‌:
  • Состав электролита: H₂SO₄ (80–120 г/л), TeO₂ (40–60 г/л), добавка (желатин 0,1–0,3 г/л);
  • Регулировка температуры: 30–40°C, скорость циркуляции 1,5–2 м³/ч.
  • Параметры процесса‌:
  • Плотность тока: 100–150 А/м², напряжение ячейки 0,2–0,4 В;
  • Расстояние между электродами: 80–120 мм, толщина катодного осаждения 2–3 мм/8 ч;
  • Эффективность удаления примесей: Cu ≤5 ppm, Pb ≤1 ppm.
  • Меры предосторожности‌: Регулярно фильтруйте электролит (точность ≤1 мкм); механически полируйте поверхности анода для предотвращения пассивации.
  1. Вакуумная дистилляция
  • Параметры процесса‌:
  • Уровень вакуума: ≤1×10⁻²Па, температура дистилляции 600–650°C;
  • Температура в зоне конденсатора: 200–250 °C, эффективность конденсации паров Te ≥95%;
  • Время дистилляции: 8–12 ч, производительность за один цикл ≤50 кг.
  • Распределение примесейНизкокипящие примеси (Se, S) накапливаются на фронте конденсатора; высококипящие примеси (Pb, Ag) остаются в остатке.
  • Меры предосторожности: Перед нагревом необходимо предварительно откачать вакуум в вакуумной системе до давления ≤5×10⁻³Па, чтобы предотвратить окисление Te.

III. Рост кристаллов (направленная кристаллизация)

  1. Конфигурация оборудования
  • Модели печей для выращивания кристаллов‌: TDR-70A/B (грузоподъемность 30 кг) или TRDL-800 (грузоподъемность 60 кг);
  • Материал тигля: графит высокой чистоты (содержание золы ≤5 ppm), размеры Φ300×400 мм;
  • Метод нагрева: графитовый резистивный нагрев, максимальная температура 1200 °C.
  1. Параметры процесса
  • Контроль плавления‌:
  • Температура плавления: 500–520 °C, глубина расплавленной ванны: 80–120 мм;
  • Защитный газ: аргон (чистота ≥99,999%), расход 10–15 л/мин.
  • Параметры кристаллизации‌:
  • Скорость вытягивания: 1–3 мм/ч, скорость вращения кристалла 8–12 об/мин;
  • Температурный градиент: осевой 30–50 °C/см, радиальный ≤10 °C/см;
  • Метод охлаждения: медное основание с водяным охлаждением (температура воды 20–25 °C), верхнее радиационное охлаждение.
  1. Контроль примесей
  • Эффект сегрегацииПримеси, такие как Fe, Ni (коэффициент сегрегации <0,1), накапливаются на границах зерен;
  • Циклы переплавки: 3–5 циклов, конечное общее содержание примесей ≤0,1 ppm.
  1. Меры предосторожности‌:
  • Покройте поверхность расплава графитовыми пластинами, чтобы подавить испарение теллура (скорость потерь ≤0,5%);
  • Контроль диаметра кристалла в режиме реального времени с помощью лазерных измерителей (точность ±0,1 мм);
  • Избегайте колебаний температуры >±2°C, чтобы предотвратить увеличение плотности дислокаций (целевое значение ≤10³/см²).

IV. Контроль качества и ключевые показатели

‌Тестовый образец‌

Стандартное значение

Метод испытания

источник

Чистота

≥99,99999% (7N)

ИК-МС

Общее содержание металлических примесей

≤0,1 ppm

GD-MS (масс-спектрометрия тлеющего разряда)

Содержание кислорода

≤5 ppm

Термоядерный синтез в инертных газах – ИК-поглощение

Целостность кристалла

Плотность дислокаций ≤10³/см²

Рентгеновская топография

Удельное сопротивление (300 К)

0,1–0,3 Ом·см

Метод четырех зондов


V. Протоколы по охране окружающей среды и технике безопасности

  1. Обработка выхлопных газов‌:
  • Выхлопные газы от обжига: нейтрализовать SO₂ и SeO₂ с помощью скрубберов NaOH (pH≥10);
  • Выхлопные газы вакуумной дистилляции: конденсация и сбор паров теллура; остаточные газы адсорбируются с помощью активированного угля.
  1. Переработка шлака‌:
  • Анодный шлам (содержащий Ag, Au): Извлечение методом гидрометаллургии (система H₂SO₄-HCl);
  • Остатки электролиза (содержащие Pb, Cu): Вернуться к системам выплавки меди.
  1. Меры безопасности‌:
  • Операторы должны носить противогазы (пары теллура токсичны); поддерживать вентиляцию с отрицательным давлением (скорость воздухообмена ≥10 циклов/час).

Рекомендации по оптимизации процессов

  1. Адаптация сырья‌: Динамическая регулировка температуры обжига и соотношения кислот в зависимости от источников анодного шлама (например, при выплавке меди или свинца);
  2. Согласование коэффициентов вытягивания кристаллов‌: Отрегулируйте скорость вытягивания в соответствии с конвекцией расплава (число Рейнольдса Re≥2000), чтобы подавить конституционное переохлаждение;
  3. ЭнергоэффективностьИспользование двухзонного нагрева (основная зона 500°C, подзона 400°C) позволяет снизить энергопотребление графитового резистивного нагревателя на 30%.

Дата публикации: 24 марта 2025 г.